Olchowik, Jan MarianJan MarianOlchowik2024-12-192024-12-192000https://hdl.handle.net/20.500.14629/17042Sposób wytwarzania płaskich krzemowych warstw krawędziowych na powierzchni SiO₂Method of obtaining flat edging silicon layers on SiO₂ surfacesPatenthttps://ewyszukiwarka.pue.uprp.gov.pl/search/pwp-details/P.339396WUP 06/2007BUP 21/2001P.339396Pat.194459