Publication details
Alternative title
Source of gaseous chemical elements designed for metal implantation
Type
Subtype
Invention
Authors / Creators
Publisher
Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
Date
2002
Abstracts and keywords
Abstract (PL)
Źródło jonów pierwiastków gazowych do implantacji metali, działające za zasadzie elektrycznego wyładowania jarzeniowego, zapalanego w zjonizowanym gazie, w układzie elektrod z wnękową katodą, charakteryzuje się tym, że aluminiowy korpus (1) posiadający wnękę katodową w kształcie osiowego cylindrycznego wydrążenia (2) z wyprofilowanym zewnętrznie radiatorem (3) żebrowym stanowi katodę posiadającą od strony anody wymienne przesłony (4) z otworem, a do anody (5) dochodzi gazowy przepust (6) próżniowy izolowany elektrycznie z zewnętrznym radiatorem (7) żebrowym.
Additional information
Application date
2002-12-23
WUP publication date
2008-10-31
Exclusive right number
Pat.199689
Żukowski, P., Kiszczak, K., Kozak, C. M., & Karwat, C. (2002). Źródło jonów pierwiastków gazowych do implantacji metali. https://hdl.handle.net/20.500.14629/17255

Loading...
Files
License
Accessibility issue?Request a WCAG-compliant file
Publication available in collections