Sposób wytwarzania płaskich krzemowych warstw krawędziowych na powierzchni SiO₂

dc.abstract.plSposób wytwarzania płaskich krzemowych warstw krawędziowych na powierzchni SiO2 polega na tym, że warstwę (4) hoduje się na monokrystalicznym podłożu (1) Si(100), utlenionym w czasie 1 h w atmosferze suchego tlenu przy temperaturze 900°C, wynikiem czego jest wytworzenie warstwy (2) SiO2 o grubości 1000 Ć, w której po fotolitograficznym wytrawieniu siatki wzajemnie równoległych, szerokich na 10 Šm i odległych od siebie o 100 Šm okien (3), trawionych w ciągu 60 min. w roztworze NH4F:H2O2, za pomocą metody epitaksji z fazy ciekłej z roztworu Sn:Si, nasyconego w temperaturze 920°C wytwarza się warstwy (4) Si krawędziowe, rozwijające się nad powierzchnią SiO2 prostopadle względem siatki otwartych okien, łączących się ze sobą bezdyslokacyjnie w przestrzeni międzyokiennej.
dc.affiliationPOLITECHNIKA LUBELSKA
dc.contributor.authorOlchowik, Jan Marian
dc.date.accessioned2024-12-19T13:04:47Z
dc.date.application2000-03-31
dc.date.available2024-12-19T13:04:47Z
dc.date.issued2000
dc.date.publicationbup2001-10-08
dc.date.publicationwup2007-06-29
dc.description.classificationC01B 33/02 20060101AFI20061222BHPL
dc.description.classificationC23C 14/16 20060101ALI20061222BHPL
dc.description.classificationC23C 14/04 20060101ALI20061222BHPL
dc.identifier.bupBUP 21/2001
dc.identifier.patentPat.194459
dc.identifier.publicationP.339396
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.14629/17042
dc.identifier.weblinkhttps://ewyszukiwarka.pue.uprp.gov.pl/search/pwp-details/P.339396
dc.identifier.wupWUP 06/2007
dc.languagepolski
dc.patent.countryPL
dc.patent.nameUrząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
dc.publisherUrząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
dc.subtypeInvention
dc.titleSposób wytwarzania płaskich krzemowych warstw krawędziowych na powierzchni SiO₂
dc.title.alternativeMethod of obtaining flat edging silicon layers on SiO₂ surfaces
dc.typePatent
dspace.entity.typePublication
Files

Original bundle

Name:
miniaturka.jpg
Size:
244.75 KB
Format:
Joint Photographic Experts Group/JPEG File Interchange Format (JFIF)
Licence:
Publication available in collections: